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Adsorption von Fe(CO)5 auf Si(111)7x7-Oberflächen

Stefan Mühlbauer

ISBN 978-3-89722-924-2
96 pages, year of publication: 2002
price: 40.50 €
Die vorliegende Arbeit befasst sich mit den ersten Elementarschritten der Silizidbildung mittels MOCVD, nämlich der Adsorption von Fe(CO)5 auf Si(111)7x7 Oberflächen bei Temperaturen zwischen 100K und 700K. Besondere Beachtung fand dabei die Wirkung von Silan [29] und das Verhalten des CO's, das bei der Dissoziation von Fe(Co)5 freigesetzt wird. Dabei soll untersucht werden, ob Silan koadsobiert werden muss, um epitaktische Schichten herzustellen.

Fraglich ist nämlich, inwieweit der daraus resultierende Kohlenstoff in die β-Eisendisilizidschicht eingebaut wird und die unbefriedigende Qualität der bisher durch MOCVD erzeugten Flächen verursacht.

Keywords:
  • HREELS
  • Adsorption
  • Oberflächenphysik
  • Elektronenspektroskopie
  • Eisendisilizid

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