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Arrays miniaturisierter Elektronenoptiken mittels Halbleiter- und Mikromechaniktechnologien für die parallele Elektronenstrahl-Lithographie

Harald Gross

ISBN 978-3-89722-221-2
92 pages, year of publication: 1999
price: 35.00 €
Die in der Halbleiterindustrie angestrebte Kostenreduktion von 25-30% pro Jahr wird unter anderem durch die Verkleinerung der herstellbaren Strukturbreiten bei der Massenproduktion ermöglicht. Im nächsten Jahrzehnt sollen Strukturbreiten von unter 100nm erreicht werden, die sich bis jetzt nicht mit der konventionellen optischen Lithographie fabrizieren lassen. Deshalb werden neue Lithographiesysteme erforscht und entwickelt. Mit Hilfe der Elektronenstrahl-Lithographie lassen sich schon seit einigen Jahren Strukturbreiten von unter 50nm erzielen. Der größte Nachteil dieser Lithographie bei der Massenproduktion ist jedoch der geringe Durchsatz. Abhilfe könnte durch einen parallelen Aufbau vieler miniaturisierter Elektronenstrahlschreiber in einem Array erreicht werden.

In dieser Arbeit wurden Wege für die Herstellung und Justierung von Arrays elektrostatischer Blenden, Linsen und Ablenker für miniaturisierte Elektronenstrahlschreiber aufgefunden und die ausgezeichneten realisiert. Dabei wurden hauptsächlich Methoden und Materialien der Halbleiter- und Mikromechaniktechnologie eingesetzt. Anschließend wurden die elektronenoptischen Eigenschaften einzelner Bauelemente dieser Arrays charakterisiert und mit theoretischen Simulationen verglichen.


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